具槽石斛,茎通常直立,肉质,扁棒状,下部收狭为细圆柱形,不分枝,具纵条纹和数个节。叶纸质,数枚,互生于茎的近顶端,常斜举,长圆形。总状花序从当年生具叶的茎上端发出,长8-15厘米,下垂,密生少数至多数花;

花质地薄,白天张开,晚间闭合,奶黄色;花瓣近倒卵形,长2.4厘米,宽1.1厘米,先端锐尖,基部收狭为短爪,具5条脉;唇瓣的颜色较深,呈橘黄色。

近基部两侧各具1个褐色斑块,近圆形。花期6月。具槽石斛生于海拔700-800米的密林中树干上。产中国云南南部,锡金、印度东北部、缅甸、泰国、老挝也有分布。

形态特征:具槽石斛为总状花序从当年生具叶的茎上端发出,长8-15厘米,下垂,密生少数至多数花;花序柄基部有3-4枚覆瓦状的鞘;花苞片很小,狭卵状披针形,长约5毫米;

花梗和子房长约2.5厘米;花质地薄,白天张开,晚间闭合,奶黄色;中萼片长圆形,长约2.5厘米,宽9毫米,先端近锐尖,具5-6条脉,侧萼片与中萼片近等大;萼囊圆锥形,宽而钝,长约5毫米。

花瓣近倒卵形,长2.4厘米,宽1.1厘米,先端锐尖,基部收狭为短爪,具5条脉;唇瓣的颜色较深,呈橘黄色,近基部两侧各具1个褐色斑块,近圆形,长、宽约2厘米,两侧围抱蕊柱而使整个唇瓣呈兜状。

先端微凹,基部具短爪,唇盘上面的前半部密被短柔毛,边缘具睫状毛;蕊柱长约5毫米;药帽前后压扁的半球形或圆锥形,顶端稍凹,光滑,前端边缘多少不整齐。具槽石斛的花期6月。

生长习性:具槽石斛是一种喜阴凉的多年生草本植物,喜在温暖、潮湿、以年降雨量1000毫米以上、半阴半阳的环境,1月平均气温高于8℃的亚热带深山老林中生长为佳,适宜生长温度为15到28度,适宜生长空气湿度为60%以上。

对土肥要求不甚严格,野生多在疏松且厚的树皮或树干上生长,有的也生长于石缝中。属气生根系,主要要求根部通透性好,采用的基质最好能通风透气滤水。

在适宜的温度湿度下,生长速度快,生存能力非常强。每年春末夏初,二年生茎上部节上抽出花序,开花后从茎基长出新芽发育成茎,秋冬季节进入休眠期。

具槽石斛的养殖方法

选地:选地、整地 根据其生长习性,石斛类栽培地宜选半阴半阳的环境,空气湿度在80%以上,冬季气温在0℃以上地区。人工可控环境也可,树种应以黄桷树、梨树、樟树等且应树皮厚有纵沟、含水多、枝叶茂、树干粗大的活树,石块地也应在阴凉、湿润地区,石块上应有苔藓生长及表面有少量腐殖质。

选盆:通常选用四壁多孔的塑料或陶瓷花盆,用碳根、泥炭藓、树皮块、木炭块等作盆栽材料。根据兰苗的大小,选择不同规格的花盆,但不宜用大盆栽小苗口上述栽好材料在使用前。

必需在清水中浸泡1天以上备用。盆底要多垫大瓦片或碎砖块,深度至盆底约1/3处,然后将兰苗放于盆中央,并在一旁插一细竹竿以固定兰苗,再填入其他栽培材料,注意根与根之间用材料隔开。

浇水:栽植初期先放在阴凉阴凉并有散射光处,仅向叶面上喷些水,勿向盆内浇水。约10-15天后,待萌发出新根后两移至阴棚下养护。生长季节浇水要干湿相间保持适度干薄饼肥水。

生长旺盛期树每天浇水一次,干旱季节和炎夏还需经常在花盆四周地面上喷水,以保持较高的空气湿度,并要注意通风良好。冬季休眠期应少浇水。后期空气湿度过小要经常浇水保湿,可用喷雾器以喷雾的形式浇水。

温度:刚移栽的组培苗对水分很敏感,缺水则生长缓慢、干枯、成活率低。而喷雾过多则渍水烂根,温度高、湿度大时还易引发软腐病大规模发生。移栽后一周内(幼苗尚未发新根)空气湿度宜保持在90%左右。

一周后,植株开始发新根,空气湿度可保持在70%-80%。种植畦干湿交潜有利于发根长芽。忌强光直射,春秋两季早上可见阳光,冬季可置光照充足处,其他时间置于具有明亮散射光而又通风的地方。越冬温度保持在8-10℃即可。

施肥:由于石斛类为气生根,因此要喷施适宜的叶面肥作为营养液,以供给植株充足的养分,利早发根长芽。叶面肥可以选择硝酸钾、磷酸二氢钾、腐植酸类等,以及进口三元复合肥和稀释的MS培养基等。

一般移栽后一周,植株新根发生后开始喷施千分之一的硝酸钾或磷酸二氢钾,7-10天喷一次,连续喷3次。长出新芽后每隔10-15天喷3‰的三元复合肥等。

生长地贫瘠应注意追肥,第一次在清明前后,以氮肥混合猪牛粪及河泥为主。第二次在立冬前后用花生鼓、菜籽饼、过磷酸钙等加入河泥调匀糊在根部,此外尚可根外追肥。

修枝:石斛生长地的都闭度在60%左右,因此要经常对附生树进行整枝修剪,以免过于荫蔽或郁闭度不够。每年春天前发新整时,结合采收老茎将丛内的枯茎剪除,并除去病茎、弱茎以及病者根,栽种6-8年后视丛蔸生长情况翻蔸重新分枝繁殖。